SUTD توسعه یک روش ساده برای چاپ مسطح microstructures از polysiloxane

Polysiloxane یک پلیمر الاستیک است که به طور گسترده ای مورد استفاده در fluidics اپتیک و مهندسی پزشکی. آن را ارائه می دهد خواص مطلوب برای microfabrication با توجه به آن تزریق و قابل درمان خواص.

برای تولید در مقیاس کوچک سازه های متشکل از polysiloxane نرم لیتوگرافی استفاده می شود به عنوان یک روش استاندارد در آزمایشگاه تحقیقات علمی.

پیشرفت های اخیر در, دیجیتال, ساخت, به ویژه در چاپ 3D را فعال مستقیم الگودهی از polysiloxane البته با الزامات سختگیرانه برای خواص جوهر برای چاپ. مناسب جوهر معمولا بسیار چسبناک و سریع درمان. برای چاپ 3D عملکرد استرس یا photocurable فنی polysiloxane رزین های مورد نیاز به آنها اجازه می دهد برای حفظ چاپی شکل.

کم غلظت افزودنی-درمان polysiloxane باعث می شود آنها را ناسازگار برای چاپ مستقیم با جوهر نوشتن (DIW) پرینتر 3D. در حالی که ویسکوزیته پایین از polysiloxane رزین مانند Sylgard 184 تسهیل آسان اکستروژن از طریق نازل های reflow از رزین الگو می تواند سازش چاپ وفاداری.

محققان دانشگاه سنگاپور تکنولوژی و طراحی (SUTD) نرم Fluidics آزمایشگاه طراحی و توسعه یک روش ساده برای ساخت دو وجهی تکرار microstructures متشکل از polysiloxane با استفاده از تجاری در دسترس مایع polysiloxane رزین بدون تغییر خواص آنها.

در این تازگی توسعه یافته رویکرد قابل درمان مایع polysiloxane با ویسکوزیته در محدوده 1-100 Pa.s بود توزیع در یک مایع غیر قابل امتزاج با رزین مانند متانول و اتانول و ایزوپروپانول. تماس زاویه توزیع polysiloxane در بستر افزایش یافته و از 20o در هوا به 100o در الکل. افزایش زاویه تماس مجاز حفظ ساختار الگو polysiloxane تا درمان و پس از آن به تعبیه مایع بود به آسانی برداشته می شود با تبخیر. این روش به عنوان نامیده تعبیه شده جوهر نوشتن (EIW) (رجوع به تصویر).

"با EIW, polysiloxane جوهر را می توان الگو های مختلف نرم افزاری و سخت بسترهای بدون افت چسبندگی چاپ شده polysiloxane با بستر" توضیح داد که منجر نویسنده دکتر راهول Karyappa از SUTD.

"حضور تعبیه رسانه نیست مانع اتصال polysiloxane رشته در هر دو جانبی و عمودی ترتیبات اجازه می دهد این فن آوری به طور موثر به خصوص در ساخت دستگاه های انعطاف پذیر و ميکروفلوييدی با استفاده از دستگاه های تجاری در دسترس PDMS رزین" اضافه شده محقق اصلی استاديار Michinao هاشیموتو از SUTD.

###

این کار تحقیقاتی منتشر شده در ACS Applied Materials and Interfacesپیشرو مجله را تشویق می کند که به تازگی کشف شده مواد و فاصله فرآیندهای. تری اعظم دکتری پژوهشگر در SUTD همچنین شرکت در این پروژه تحقیقاتی.

سلب مسئولیت: AAAS و EurekAlert! مسئول صحت اخبار منتشر شده به EurekAlert! با کمک موسسات و یا برای استفاده از هر گونه اطلاعات از طریق EurekAlert سیستم.